半導体技術ロードマップ専門委員会
Semiconductor Technology Roadmap Committee of Japan
ＳＴＲＪワークショップでの講演スライドがご覧になれます。
3/5 STRJ WS
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International Roadmap Committee (IRC) ITRS 2009の概要
石内 秀美 (STRJ委員長： 東芝)
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ES&H WG
「ITRS2009 ESHの概要」
大越 隆之（WG9リーダー：NECエレクトロニクス）
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FI WG
「ＦＩ／ＴＷＧ活動の歴史と意義、−ムダ削減による生産性向上に向けて−」
本間 三智夫 （WG8：NECエレクトロニクス）
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歩留向上WG
「Non visual defect & contaminationへの挑戦」
津金 賢（WG11：日立製作所）
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モデリング／シミュレーションWG
「ITRS 2009年版のモデリング&シミュレーションの概要」
佐藤 成生（WG10：FML）
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メトロロジーWG
「3D計測の現状と課題＆故障解析SWGの活動状況報告」
河村 栄一（WG14：FML）
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特別講演
「スピン流とスピントロニクス」
高梨 弘毅（東北大学）
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Emerging Research Deviceｓ（ERD）WG
「Emerging Research Device (ERD) WG −Beyond CMOS候補の位置付けと研究動向−」
平本 俊郎（WG12：東京大学）
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Emerging Research Materials（ERM）WG
「新探究材料〜応用別にみたERMの可能性」
秋永 広幸（WG13：産業総合研究所）
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設計 WG
「検証課題の深耕 −大規模化に向けての検証阻害要因−」
松崎 正己（WG1：FML）
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テスト WG
「LSI多様化へのテストのあくなき挑戦 〜品質とコストのバランスを目指して〜」
佐藤 康夫（WG2：九州工業大学）
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実装WG
「More than Mooreに辿る道 −Packaging Integration−」
中島 宏文（WG7：NECエレクトロニクス）
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Process-Integration andDevice Structures（PIDS）WG
「ロジック、及び、メモリデバイスのスケーリングトレンド 〜ロジックデバイススケーリングの鈍化とメモリデバイススケーリングの加速」
尾田 秀一（WG6：ルネサステクノロジ）
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リソグラフィWG
「光延命とEUVの現状」
内山 貴之（WG5：NECエレクトロニクス）
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Front-End Processes（FEP）WG
「ＦＥＰ技術動向とＩＴＲＳ２００９改訂」
北島 洋（WG3：NECエレクトロニクス）
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配線WG
「〜さらなる配線微細化の実現に向けて〜」
廣井 政幸（WG4：NECエレクトロニクス）
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社団法人 電子情報技術産業協会
半導体技術ロードマップ専門委員会事務局
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