| 半導体技術ロードマップ専門委員会 | |
| Semiconductor Technology Roadmap Committee of Japan |
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ＳＴＲＪワークショップでの講演スライドがご覧になれます。 3/4 STRJ WS |
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International Roadmap Committee (IRC) ITRS 2010の概要 石内 秀美 (STRJ委員長： 東芝) |
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テストWG 「ＬＳＩ多様化に対するテストの更なる挑戦〜品質とコストの両立を目指して〜」 小林 拓也 （ＷＧ２：パナソニック） |
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実装WG 「世界の実装技術／日本の実装技術」 中島 宏文 （ＷＧ７：ルネサスエレクトロニクス） |
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設計WG 「機能検証の解決策の深耕 〜SOC機能検証技術の進展と今後の取り組み〜」 松崎 正己 （ＷＧ１：富士通セミコンダクター） |
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メトロロジWG 「計測TWG活動報告」 河村 栄一 （ＷＧ１４：富士通セミコンダクター） |
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特別講演 「電界効果によるグラフェンの電気伝導変調」 鳥海 明氏 （東京大学） |
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特別講演 「グラフェン横配線とカーボンナノチューブ縦配線：材料技術の進展」 粟野 祐二氏 （慶應大学） |
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Emerging Research Devices（ERD）WG 「More-than-Moore, Beyond CMOSの現状と動向」 木下 敦寛 （ＷＧ１２：東芝） |
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Emerging Research Materials（ERM）WG 「ERMの挑戦的課題〜ERMで何が出来るのか？」 秋永 広幸 （ＷＧ１３：産業技術総合研究所） |
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配線WG 「STRJ-WG4(配線)活動報告〜微細化の深耕と3次元集積化への展開〜」 中村 友二 （ＷＧ４：富士通セミコンダクター） |
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Front-End Processes（FEP）WG 「今後のFEP技術」 北島 洋 （ＷＧ３：ルネサスエレクトロニクス） |
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Process-Integration and Device Structures（PIDS）WG 「ロジックおよびメモリデバイスのスケーリングトレンド 〜トレンドが変化するローパワーロジック、加速するメモリ〜」 松尾 一郎 （ＷＧ６：パナソニック） |
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リソグラフィWG 「NGLの現状と課題」 内山 貴之 （ＷＧ５：ルネサスエレクトロニクス） |
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