| 半導体技術ロードマップ専門委員会 | |
| Semiconductor Technology Roadmap Committee of Japan |
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ＳＴＲＪワークショップでの講演スライドがご覧になれます。 3/4 STRJ WS 「半導体技術ロードマップ専門委員会」 第二部」 『ITRS 2004 Updateに見る今後のLSI技術の方向性』 |
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リソグラフィWG 「45nm以降に向けたリソグラフィ技術 －ArF液浸への期待とその後の展開－」 羽入 勇 （WG5サブリーダ： 富士通） |
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特別講演：「EUV露光技術の現状と課題」 寺澤 恒男 氏 （WG5委員： ASET） |
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配線WG 「微細Cu/Low-k配線の課題と対策」 上野 和良 （WG4委員： NECエレクトロニクス） |
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メトロロジ／歩留向上WG 「ウェーハ環境汚染制御 －信頼性と歩留まりを制するもの、それは「汚染制御」－」 津金 賢 （WG11-WECCサブWGリーダ： 日立） |
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リソグラフィ／メトロロジ クロスカット活動報告 「LER/LWR計測標準化 －65nm以降のデバイスパフォーマンスの決め手－」 藤井 眞治 （WG11委員： 松下） |
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故障解析技術タスクフォース 「故障解析技術TF活動報告 2004年度」 二川 清(故障解析技術TFリーダ： NECエレクトロニクス) 益子 洋治(故障解析技術TFサブリーダ： ルネサステクノロジ) |
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ファクトリインテグレーションWG 「能動的な工場の可視化」 本間 三智夫 （WG8リーダ： NECエレクトロニクス） |
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ファクトリインテグレーション／ES&Hクロスカット活動報告 「見える管理の出来る工場のES&H －省エネルギの検討－」 矢島 比呂海 （WG8委員： 東芝） |
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ES&H WG 「半導体製造プロセスに沿った環境負荷の定量評価法 －JEITA標準180nmロジックプロセスのLCA評価結果－」 青山 純一 (WG9リーダ： ソニー) |
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