| 半導体技術ロードマップ専門委員会 | ![]() |
| Semiconductor Technology Roadmap Committee of Japan |
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STRJワークショップでの講演スライドがご覧になれます。 3/9 STRJ WS 「半導体技術ロードマップ専門委員会」 第二部 『ITRS 2006 Update に見る今後のLSI技術の方向性』 |
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Front-End Processes (FEP) WG 「接合技術の今後 ―新プロセス・新構造による接合設計― 」 北島 洋 (WG3リーダ: NECエレクトロニクス) |
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配線WG 「STRJ-WG4(配線)報告 ―微細化の深耕とBeyond Cu/Low-kの展望― 」 宮崎 博史 (WG4委員: ルネサステクノロジ) |
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リソグラフィWG 「光か?EUVか? ―k1:0.25の壁を乗り越えられるか― 」 羽入 勇 (WG5リーダ: 富士通) |
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メトロロジー WG 「計測/検査技術の新しい潮流 ―新たなる技術要求と解決策― 」 河村栄一 (WG11サブリーダ: 富士通) |
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メトロロジー WG 「WECCの現状と今後―WECCロードマップ日本版元年―」 津金賢(WG11委員:日立) |
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経済性小委員会講演 「ITRS under the Increasing Complexity ―In Search of a “Global Brain”― 」 中馬 宏之 氏 (一橋大学) |
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設計タスクフォース 「低電力SOCのロードマップ ―配線分布・抵抗の予測とSOC性能に及ぼす影響― 」 石橋 孝一郎 (TFリーダ: ルネサステクノロジ) |
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設計WG 「微細化/複雑化の設計への影響 ―回路パス遅延ばらつきのロードマップ化― ―設計遅れ要因変化の分析― 」 柏木 治久 (WG1リーダ: STARC)、山本 一郎 (WG1委員: 沖電気) |
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テストWG 「DFTとATEとの融合 ―品質とコストの両立する テスト技術ロードマップに向けて― 」 西村 安正 (WG2リーダ: ルネサステクノロジ) |
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モデリング/シミュレーションWG 「デバイス開発へのM&S活用 ―MOSFETロバスト特性開発、ばらつき問題への取組み状況― 」 麻多 進 (WG10リーダ: NECエレクトロニクス) |
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歩留向上WG 「その先の歩留モデルへ ―加工と計測の限界から― 」 桑原 純夫 (WG11リーダ: NECエレクトロニクス) |
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