半導体技術ロードマップ専門委員会 タイトル
Semiconductor Technology Roadmap Committee of Japan

 
STRJワークショップでの講演スライドがご覧になれます。

3/9 STRJ WS 「半導体技術ロードマップ専門委員会」 第二部
『ITRS 2006 Update に見る今後のLSI技術の方向性』
 
          

Front-End Processes (FEP) WG
「接合技術の今後 ―新プロセス・新構造による接合設計― 」

                            北島 洋 (WG3リーダ: NECエレクトロニクス)

          

配線WG
「STRJ-WG4(配線)報告 ―微細化の深耕とBeyond Cu/Low-kの展望― 」

                            宮崎 博史 (WG4委員: ルネサステクノロジ)

          

リソグラフィWG
「光か?EUVか? ―k1:0.25の壁を乗り越えられるか― 」

                            羽入 勇 (WG5リーダ: 富士通)

          

メトロロジー WG
「計測/検査技術の新しい潮流 ―新たなる技術要求と解決策― 」

                            河村栄一 (WG11サブリーダ: 富士通)

          

メトロロジー WG
「WECCの現状と今後―WECCロードマップ日本版元年―」

                            津金賢(WG11委員:日立)

          

経済性小委員会講演
「ITRS under the Increasing Complexity ―In Search of a “Global Brain”― 」

                            中馬 宏之 氏 (一橋大学)

          

設計タスクフォース
「低電力SOCのロードマップ ―配線分布・抵抗の予測とSOC性能に及ぼす影響― 」

                            石橋 孝一郎 (TFリーダ: ルネサステクノロジ)

          

設計WG
「微細化/複雑化の設計への影響 ―回路パス遅延ばらつきのロードマップ化―
―設計遅れ要因変化の分析― 」

           柏木 治久 (WG1リーダ: STARC)、山本 一郎 (WG1委員: 沖電気)

          

テストWG
「DFTとATEとの融合 ―品質とコストの両立する テスト技術ロードマップに向けて― 」

                            西村 安正 (WG2リーダ: ルネサステクノロジ)

          

モデリング/シミュレーションWG
「デバイス開発へのM&S活用 ―MOSFETロバスト特性開発、ばらつき問題への取組み状況― 」

                            麻多 進 (WG10リーダ: NECエレクトロニクス)

          

歩留向上WG
「その先の歩留モデルへ ―加工と計測の限界から― 」

                            桑原 純夫 (WG11リーダ: NECエレクトロニクス)

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問合わせ先:
社団法人 電子情報技術産業協会
半導体技術ロードマップ専門委員会事務局
03-5275-7258
mailto:roadmap@jeita.or.jp